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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD Pioneer 180 MAPLE PLD SystemNeocera
产品简介基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是脉冲激光沉积(PLD)的一种变体。这是NRL集团引入的新技术,旨在促进某些功能有机材料的薄膜沉积。在传统的UV(5-6eV)PLD技术中,光化学
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Pioneer 180 MAPLE PLD SystemNeocera脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
产品简介基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团新引入的技术,以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV(5-6eV)的传统PLD技术中,光化学反应可能会恶化有机分子
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Pioneer 180 MAPLE PLD System激光脉冲沉积(PLD)Neocera
产品简介基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是一种基于PLD的技术变体。NRL集团引入了这项新技术,用于促进某些功能有机材料的薄膜沉积。与传统的UV(5-6eV) PLD技术相比,MAPLE中的光化学
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团引入的,以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV (5-6 eV)的传统PLD技术可能不适用于这种情况,因为光化学
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脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System
Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。
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Pioneer 180 PED SystemNeocera脉冲电子沉积(PED)
PED和进样系统load-lock* 可附加的沉积源有脉冲激光和射频/直流溅射* 集成XPS/ARPES UHV集群系统和原位高真空基片传送系统脉冲电子束沉积系统PED可以沉积的代表性材料示例
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Pioneer 180 PLD System脉冲激光沉积系统
。衬底连续旋转,并可以负载锁定。Pioneer 180 PLD系统包括一个自动多目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干
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脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
独立的交钥匙PLD系统。 外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。 纳米级薄膜的沉积。 外延氧化膜沉积的可编程氧兼容加热器。 自动多目标旋转多层沉积。 全干式真空泵组。 通过系统软件进行闭环压力控制。
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高级脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 Advanced PLD System
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于卓越经验的创新设计。 Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得最佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
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